产品中心
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Systems
PVD 溅射系统
多源磁控溅射，适用于金属、介质和化合物薄膜——从研发到生产规模。
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Systems
DLC & TAC 涂层系统
类金刚石和四面体非晶碳——超高硬度、低摩擦、延长部件寿命。
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Systems
ALD 原子层沉积系统
原子层沉积——纳米精度薄膜，完美的保形性。热式和等离子增强型。
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Components
磁控阴极
圆形、平面和旋转阴极——2英寸至12英寸——针对每种沉积几何形状和产能需求进行优化。
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Components
射频电源——13.56MHz
300W至3,000W的13.56MHz射频发生器，用于等离子工艺和薄膜沉积。
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Components
微波发生器——2.45GHz
固态和磁控管微波发生器，300W至6kW，用于先进等离子应用。
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